Вклучуваат вообичаени специјални електронски гасови што содржат флуор, вклучуваатСулфур хексафлуорид (SF6), волфрам хексафлуорид (WF6),јаглерод тетрафлуорид (CF4), Трифлуорометан (CHF3), азот трифлуорид (NF3), хексафлуороетан (C2F6) и октафлуоропропан (C3F8).
Со развојот на нанотехнологијата и големиот развој на електронската индустрија, неговата побарувачка ќе се зголеми од ден на ден. Трифлуорид на азот, како неопходен и најголем специјален електронски гас во производството и преработката на панели и полупроводници, има широк простор на пазарот.
Како еден вид специјален гас што содржи флуор,азот трифлуорид (NF3)е електронски специјален производ за гас со најголем пазар на капацитет. Хемиски е инертен на собна температура, поактивен од кислородот на висока температура, постабилен од флуор и лесен за ракување. Азотниот трифлуорид главно се користи како гас за гравирање на плазма и средство за чистење на комората за реакција и е погоден за производните полиња на полупроводнички чипови, рамни панели, дисплеи, оптички влакна, фотоволтаични клетки, итн.
Во споредба со другите електронски гасови што содржат флуор,азот трифлуоридима предности на брза реакција и висока ефикасност. Особено при гравирање на материјали што содржат силикон, како што е силикон нитрид, има висока стапка на гравирање и селективност, не оставајќи остаток на површината на гравираниот предмет. Исто така е многу добар агент за чистење и нема загадување на површината, што може да ги задоволи потребите на процесот на обработка.
Време на објавување: Сеп-14-2024
