Вообичаените специјални електронски гасови што содржат флуор вклучуваатсулфур хексафлуорид (SF6), волфрам хексафлуорид (WF6),јаглерод тетрафлуорид (CF4), трифлуорометан (CHF3), азот трифлуорид (NF3), хексафлуороетан (C2F6) и октафлуоропропан (C3F8).
Со развојот на нанотехнологијата и големиот развој на електронската индустрија, нејзината побарувачка ќе се зголемува од ден на ден. Азот трифлуорид, како незаменлив и најкористен специјален електронски гас во производството и преработката на панели и полупроводници, има широк пазарен простор.
Како вид на специјален гас што содржи флуор,азот трифлуорид (NF3)е електронски специјален гасен производ со најголем пазарен капацитет. Хемиски е инертен на собна температура, поактивен од кислородот на висока температура, постабилен од флуорот и лесен за ракување. Азот трифлуорид главно се користи како плазма плазма офорт и средство за чистење на реакционата комора и е погоден за производствени полиња на полупроводнички чипови, рамни екрани, оптички влакна, фотоволтаични ќелии итн.
Во споредба со другите електронски гасови што содржат флуор,азот трифлуоридги има предностите на брза реакција и висока ефикасност. Особено при офорт на материјали што содржат силициум како што е силициум нитрид, тој има висока стапка на офорт и селективност, не оставајќи остаток на површината на гравираниот предмет. Тоа е исто така многу добро средство за чистење и нема загадување на површината, што може да ги задоволи потребите на процесот на обработка.
Време на објавување: 14-ти септември 2024 година
