Вообичаените специјални електронски гасови што содржат флуор вклучуваатсулфур хексафлуорид (SF6), волфрам хексафлуорид (WF6),јаглерод тетрафлуорид (CF4), трифлуорометан (CHF3), азотен трифлуорид (NF3), хексафлуороетан (C2F6) и октафлуоропропан (C3F8).
Со развојот на нанотехнологијата и големиот развој на електронската индустрија, нејзината побарувачка ќе се зголемува од ден на ден. Азотниот трифлуорид, како неопходен и најкористен специјален електронски гас во производството и преработката на панели и полупроводници, има широк пазарен простор.
Како вид на специјален гас што содржи флуор,азот трифлуорид (NF3)е електронски производ со специјален гас со најголем пазарен капацитет. Хемиски е инертен на собна температура, поактивен од кислородот на висока температура, постабилен од флуорот и лесен за ракување. Азотниот трифлуорид главно се користи како гас за плазматско гравирање и средство за чистење на реакциона комора и е погоден за производство на полупроводнички чипови, рамни панели, оптички влакна, фотоволтаични ќелии итн.
Во споредба со други електронски гасови што содржат флуор,азот трифлуоридИма предности како што се брза реакција и висока ефикасност. Особено при јоргање на материјали што содржат силициум, како што е силициум нитрид, има висока брзина на јоргање и селективност, не оставајќи остатоци на површината на јорганиот објект. Исто така е многу добро средство за чистење и не ја загадува површината, што може да ги задоволи потребите на процесот на обработка.
Време на објавување: 14 септември 2024 година
